Fluctuation electron microscopy on silicon amorphized at varying self ion-implantation conditions

Radić D, Hilke S, Peterlechner M, Posselt M, Bracht H

Forschungsartikel (Zeitschrift) | Peer reviewed

Details zur Publikation

FachzeitschriftJournal of Applied Physics
Jahrgang / Bandnr. / Volume126
StatusVeröffentlicht
Veröffentlichungsjahr2019
Sprache, in der die Publikation verfasst istEnglisch
DOI10.1063/1.5107494

Autor*innen der Universität Münster

Bracht, Hartmut
Institut für Materialphysik
Hilke, Sven
Institut für Materialphysik
Peterlechner, Martin
Professur für Materialphysik (Prof. Wilde)
Radic, Dražen
Professur für Materialphysik (Prof. Wilde)