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Fluctuation electron microscopy on silicon amorphized at varying self ion-implantation conditions
Radić D, Hilke S, Peterlechner M, Posselt M, Bracht H
Forschungsartikel (Zeitschrift)
| Peer reviewed
Details zur Publikation
Fachzeitschrift:
Journal of Applied Physics
Jahrgang / Bandnr. / Volume:
126
Status:
Veröffentlicht
Veröffentlichungsjahr:
2019
Sprache, in der die Publikation verfasst ist:
Englisch
DOI:
10.1063/1.5107494
Autor*innen der Universität Münster
Bracht
,
Hartmut
Institut für Materialphysik
Hilke
,
Sven
Institut für Materialphysik
Peterlechner
,
Martin
Professur für Materialphysik (Prof. Wilde)
Radic
,
Dražen
Professur für Materialphysik (Prof. Wilde)