Strain tuning of the Stokes shift in atomically thin semiconductors
Niehues I, Marauhn P, Deilmann T, Wigger D, Schmidt R, Arora A, Michaelis de Vasconcellos S, Rohlfing M, and Bratschitsch R
Forschungsartikel (Zeitschrift) | Peer reviewedDetails zur Publikation
Fachzeitschrift: Nanoscale
Jahrgang / Bandnr. / Volume: 12
Ausgabe / Heftnr. / Issue: 40
Seitenbereich: 20786-20796
Status: Veröffentlicht
Veröffentlichungsjahr: 2020 (29.09.2020)
Sprache, in der die Publikation verfasst ist: Englisch
DOI: 10.1039/D0NR04557H
Stichwörter: Strain
Autor*innen der Universität Münster
| Arora, Ashish | |
| Bratschitsch, Rudolf | |
| Deilmann, Thorsten | |
| Marauhn, Philipp | |
| Michaelis de Vasconcellos, Steffen | |
| Niehues, Iris | |
| Rohlfing, Michael | |
| Schmidt, Robert | |
| Wigger, Daniel |