Optimierung von morphologischen, strukturellen und elektrischen Eigenschaften organischer Halbleiterdünnschichten durch Oberflächenbehandlung

Grunddaten zum Promotionsverfahren

Promotionsverfahren erfolgt(e) an: Promotionsverfahren an der Universität Münster
Zeitraum02.01.2008 - 02.05.2013
Statusabgeschlossen
Promovend*inDu, Chuan
PromotionsfachPhysik
AbschlussgradDr. rer. nat.
Verleihender FachbereichFachbereich 11 - Physik
Betreuer*innenChi, Lifeng; Fuchs, Harald

Promovend*in an der Universität Münster

Du, Chuan
Physikalisches Institut (PI)

Betreuung an der Universität Münster

Chi, Lifeng
Arbeitsgruppe Grenzflächenphysik (Prof. Fuchs)
Fuchs, Harald
Arbeitsgruppe Grenzflächenphysik (Prof. Fuchs)