A sensitive EUV Schwarzschild microscope for plasma studies with sub-micrometer resolution

Zastrau U, Rödel C, Nakatsutsumi M, Feigl T, Appel K, Chen B, Döppner T, Fenne T, Fiedler T, Fletcher LB, Förster E, Gamboa E, Gericke DO, Göde S, Grote-Fortmann C, Hilbert V, Kazak L, Laarmann T, Lee HJ, Mabey P, Martinez F, Meiwes-Broer K-H, Pauer H, Perske M, Przystawik A, Roling S, Skruszewicz S, Shihab M, Tiggesbäumker J, Toleikis S, Wünsche M, Zacharias H, Glenzer SH, Gregori G