Akademische Ausbildung | |
| seit 07/2009 | Promotionsstudium der Physikalischen Chemie an der Westfälischen Wilhelms-Universität Münster |
| 10/2003 - 03/2006 | Master of Sciences, Iran, K. N. Toosi University of Technology |
| 10/1998 - 02/2003 | Bachelor of Sciences, Iran , Arak University of Technology |
| 10/1997 - 06/1998 | Vorbereitungskurs zum Universitätsstudium, Iran |
Berufliche Stationen | |
| seit 12/2009 | Wissenschaftlicher Mitarbeiter am Institut für Physikalische Chemie der WWU Münster |
| Migration effects in Nanofilm processors based on Doping Front Migration and Lateral Anodic Oxidation Promovend*in: Rahmanian, Afsaneh | Betreuer*innen: Knoll, Meinhard Zeitraum: bis 23.10.2015 Promotionsverfahren erfolgt(e) an: Promotionsverfahren an der Universität Münster |